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企业新闻| CORPORATE NEWS
在半导体制造过程中，光刻胶的去除是关键步骤之一。等离子去胶技术因其高效、环保和精确性被广泛应用于这一过程。然而为了进一步提升生产效率和产品质量，优化半导体等离子...
[查看详情]技术文章| Technical articles
大气等离子清洗机是通过对工艺气体施加电场使电离化为等离子体，从而利用这些活性组分的性质进行氧化、还原、裂解、交联和聚合等物理和化学反应改变样品表面性质，实现清洁、改性、刻蚀等目的的设备。以下是对大气等离子清洗机的详细介绍：1.基本原理：等离子清洗机通过对工艺气体施加电场使其电离化为等离子体。等离子体的“活性”组分包括离子、电子、原子、自由活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。2.主要功能：利用等离子体的活性组分进行氧化、还原、裂解、交联和聚合等物理和化学反应，改变样品表面...
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