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真空等离子清洗机是一种利用真空环境下的等离子体进行表面清洗和处理的设备。工作原理:在真空环境中,通过射频或微波激发工艺气体,使其电离形成等离子体。这些高活性粒子通过物理轰击和化学反应,去除材料表面的有机物、氧化物及微小颗粒,实现无残留、高精度的表面处理。真空等离子清洗机集成的控制系统设计通过多维度技术整合,显著提升了设备操作的便捷性、工艺稳定性和智能化水平。以下是其核心设计要点及对操作便利性的提升:1.模块化硬件架构核心部件协同:控制系统以PLC或嵌入式处理器为核心,集成气体...
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等离子除胶机的核心原理基于等离子体的物理轰击与化学反应协同效应。在特定压强和电压条件下,工作气体(如氧气、氩气或氟化气体)通过电场激发形成等离子体。这一过程中,气体分子被电离为电子、离子、自由基等活性粒子,其能量可达5-20eV,远高于有机物分子键能。当等离子体接触胶层表面时,物理轰击作用通过高能粒子撞击破坏胶层分子链结构,使其碎裂为小分子片段;化学反应则通过自由基与胶层中的碳氢化合物发生氧化反应,生成CO2、H2O等挥发性物质。例如,在半导体制造中,氧气等离子体可将光刻胶中...
12-22
宽幅等离子清洗机能处理2米甚至更宽的材料,核心在于其模块化设计解决了机械结构上的宽度扩展问题,而等离子体扩散技术则确保了在如此大的宽度上仍能实现均匀、有效的处理效果。技术维度核心挑战解决方案关键实现方式模块化设计如何灵活、稳定地扩展处理宽度标准模块拼接将等离子体发生装置(如喷枪或电极)设计成标准模块,根据材料宽度像拼积木一样进行组合。等离子体扩散技术如何在大面积上产生并维持均匀、稳定的等离子体优化的等离子体源与气流控制采用矩形波导、悬空式反应器设计及阵列通气孔,使气流...
12-16
接触角测量仪作为表征材料表面润湿性的关键设备,广泛应用于材料科学、生物医药、半导体制造等领域。其操作涉及精密光学系统、高压气源及化学试剂,若操作不当可能引发设备损坏、人员伤害或数据失真。本文从操作前准备、实验过程规范、应急处理三个维度,系统阐述安全操作要点。一、接触角测量仪操作前准备:防患于未然1.环境安全检查温湿度控制:确保实验室温度稳定在20-25℃,湿度≤60%。湿度过高可能导致镜头起雾,温度波动影响液滴形态稳定性。通风条件:若使用挥发性液体,需开启通风橱,避免有机蒸气...
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静电消除技术在现代工业生产中扮演着至关重要的角色,特别是在电子制造、印刷包装、纺织化纤等对静电控制要求严格的行业。等离子风棒作为新一代静电消除设备,与传统静电消除器相比,在技术原理、性能指标和应用效果上展现出显著优势。一、工作原理对比1、工作原理等离子风棒(离子风棒)是一种固定式静电消除的专用设备,其核心原理是通过高压发生器产生高速流动的正负离子气流。当高压电源将输入电压升至5.6KV以上时,放电针尖的顶端产生电晕放电,将空气分子电离成大量带有正负电荷的气团。这些离子气流被压...
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宽幅等离子清洗机采用稳定性高的移相全桥软开关电路,拥有数字通信及模拟通信两种数据传输方式,通过ARM芯片强大的数据处理功能,实现设备数字化控制,客户产线,可达到控制系统统一监控,使清洗效果更稳定、更持久,抗干扰性能增强,减低故障率,控制维护成本,提高产能,有效减低生产成本。宽幅等离子清洗机的6种检测功能分析如下:1.气压检测实时监控工艺气体压力,确保等离子体生成稳定性。气压波动会直接影响等离子体的密度和活性组分分布,进而影响清洗效果。该功能通过传感器实时反馈气压数据,避免因气...
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在半导体制造工艺不断向纳米级制程演进的过程中,半导体等离子清洗机已从"可选设备"转变为产线良率提升的"刚需装备"。这一转变背后,是半导体行业对表面洁净度要求的指数级提升——当芯片线宽缩小至3nm甚至更先进节点时,纳米级的污染物都可能导致封装失效,而传统湿法清洗已难以满足这种原子级清洁需求。一、良率提升的底层逻辑:从"可选项"到"必选项"技术门槛的跨越等离子清洗机通过在高真空环境下激发气体产生等离子体,利用高能粒子轰击和活性自由基化学反应,实现对材料表面的分子级清洁。与传统湿法...
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大气等离子清洗机是一种利用等离子体在常压环境下对材料表面进行清洗、活化和涂层处理的高新技术设备,通过高频电源或微波能量激发工作气体,使气体分子电离形成等离子体。这些等离子体包含高能电子、离子、自由基和激发态分子,它们与材料表面接触时,通过物理轰击和化学反应两种作用实现清洗效果大气等离子清洗机主要由高压激励电源、等离子发生装置喷枪、控制系统三个结构组成,以下是具体介绍:1.高压激励电源:等离子体的产生需要高压激励,等离子清洗机采用中频电源进行激励,频率在20-40KHz,高压则...
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攻克微米级胶渣残留,是确保PCB(印刷电路板)高密度互连可靠性的核心挑战。等离子除胶机凭借其非接触式、高均匀性与精准可控的物理化学协同作用,成为破解此难题的关键技术。其破解之道,主要体现在以下三个方面:1.各向异性刻蚀与尺寸精准控制等离子体中的高能离子在电场驱动下,能近乎垂直地轰击孔壁表面。这种定向轰击使垂直方向的化学反应速率远大于水平方向,从而实现各向异性刻蚀。这尤其对于清理深微盲孔或通孔底部的胶渣至关重要,它能有效清除残留,同时程度保护孔侧壁的玻璃纤维等基材不被过度侵蚀,...
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plasma清洗机使用效果很好,在清洗效率、环保性、适用性、处理效果均匀性及成本效益方面均表现优异,具体分析如下:1.清洗效率与效果高效去污:清洗机通过激励电源将气体离化成等离子态,等离子体中的活性组分(如离子、电子、自由活性基团等)能够深入物体微细孔眼和凹陷内部,有效清除表面污染物,包括有机污染物、颗粒杂质等。表面改性:在清洗的同时,等离子体还能对材料表面进行改性处理,如提高表面润湿性能、改善膜的黏着力等。这对于许多应用来说至关重要,如提高胶粘、焊接、印刷、涂覆、镀膜等工艺...
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在制造领域,如微电子、医药、精密仪器生产车间,一粒微尘就可能导致产品良率的骤降。为了实现并维持“无尘环境”,工程师们付出了巨大努力:高效的空气过滤系统、严格的人员净化流程、密闭的生产设备……然而,一个看不见的“敌人”却在持续破坏这些努力——它就是静电。而等离子风棒,正是专门驯服这个隐形敌人的高科技产品,成为洁净环境中的“隐形守护者”。它究竟是如何工作的?本文将为您深入解析。一、静电:无尘环境的“头号破坏者”在深入原理之前,我们首先要明白静电在无尘环境中的三大危害:1、吸附尘埃...