攻克微米级胶渣残留，是确保PCB（印刷电路板）高密度互连可靠性的核心挑战。等离子除胶机凭借其非接触式、高均匀性与精准可控的物理化学协同作用，成为破解此难题的关键技术。其破解之道，主要体现在以下三个方面：1.各向异性刻蚀与尺寸精准控制等离子体中的高能离子在电场驱动下，能近乎垂直地轰击孔壁表面。这种定向轰击使垂直方向的化学反应速率远大于水平方向，从而实现各向异性刻蚀。这尤其对于清理深微盲孔或通孔底部的胶渣至关重要，它能有效清除残留，同时程度保护孔侧壁的玻璃纤维等基材不被过度侵蚀，...

plasma清洗机使用效果很好，在清洗效率、环保性、适用性、处理效果均匀性及成本效益方面均表现优异，具体分析如下：1.清洗效率与效果高效去污：清洗机通过激励电源将气体离化成等离子态，等离子体中的活性组分（如离子、电子、自由活性基团等）能够深入物体微细孔眼和凹陷内部，有效清除表面污染物，包括有机污染物、颗粒杂质等。表面改性：在清洗的同时，等离子体还能对材料表面进行改性处理，如提高表面润湿性能、改善膜的黏着力等。这对于许多应用来说至关重要，如提高胶粘、焊接、印刷、涂覆、镀膜等工艺...

在制造领域，如微电子、医药、精密仪器生产车间，一粒微尘就可能导致产品良率的骤降。为了实现并维持“无尘环境”，工程师们付出了巨大努力：高效的空气过滤系统、严格的人员净化流程、密闭的生产设备……然而，一个看不见的“敌人”却在持续破坏这些努力——它就是静电。而等离子风棒，正是专门驯服这个隐形敌人的高科技产品，成为洁净环境中的“隐形守护者”。它究竟是如何工作的？本文将为您深入解析。一、静电：无尘环境的“头号破坏者”在深入原理之前，我们首先要明白静电在无尘环境中的三大危害：1、吸附尘埃...

等离子去胶机在2.5D/3DIC封装中通过清除光刻胶残留、保障高密度互连质量和提升工艺可靠性三大核心机制来保障封装良率。一、清除光刻胶残留，避免短路故障在2.5D/3D封装中，光刻胶的无损去除直接决定了封装良率与长期可靠性。传统湿法去胶在面对复杂三维结构、敏感材料和严苛尺度时局限性凸显，而等离子干法去胶技术利用高能等离子体去除光刻胶，去胶速度快，无需引入化学物质，避免造成材料损伤。关键应用场景包括：-重布线层(RDL)：在扇出型封装(FOWLP)或硅/玻璃/有机中介层上制作高...

等离子风棒是一种利用等离子体技术进行静电消除和空气净化的工业设备，主要用于解决静电积聚和微粒污染问题。以下是其核心功能和应用场景的详细说明：1、核心功能-静电消除通过高压电离空气产生正负离子，中和物体表面静电（如薄膜、电子元件、纸张等），防止静电吸附灰尘或引发火花（ESD防护）。-除尘净化离子风棒附带的气流可吹走带电微粒（如粉尘、纤维），同时等离子体中的活性粒子（如臭氧、自由基）能分解有机物，实现杀菌和除味。-无耗材维护无需滤芯或化学剂，仅需定期清洁电极，长期使用成本低。2、...

全自动镀层测厚仪是现代工业质量检测的关键设备，其核心技术在于针对不同基材和镀层，采用优化的测量原理。X射线荧光（XRF）与电涡流技术的双模融合，正是为了大化测量范围、精度和效率而设计的先进解决方案。这两种技术原理迥异，优势互补，共同构成了一个强大的测量体系。X射线荧光（XRF）测量原理：XRF技术是一种基于原子级激发的物理方法。仪器发出的高能X射线照射到样品表面，激发镀层和基体材料中的原子内层电子。当被激发的原子恢复稳定时，会释放出特定能量的二次X射线（即荧光）。通过探测和分...

在制造和科研领域，表面处理是决定产品最终性能的关键环节。真空等离子清洗机作为一种高效的干法表面处理装备，其价值日益凸显。如何选择一台技术上匹配您需求的设备？本文将抛开商业因素，从原理出发，为您梳理纯技术层面的选购逻辑。第一步：理解核心原理——为何它能“洗”得干净？真空等离子清洗机的核心原理是利用能量（如射频RF或微波Microwave）将通入的工艺气体（如氧气、氩气）激发成等离子体态。这种等离子体由高活性粒子（离子、电子、自由基、紫外光子）组成，它们与材料表面发生两种主要作用...

在追求高品质生活的当下，室内空气质量愈发受到人们的关注。无论是家中弥漫的二手烟味、刚装修完残留的甲醛，还是潮湿季节滋生的各种细菌，都严重影响着我们的生活环境和身体健康。而一款高效实用的空气净化设备，就如同一位默默守护家人健康的卫士，其中，SPA-2600等离子风棒凭借其优异的性能脱颖而出，成为众多用户的心仪之选。1、什么是等离子技术？等离子体被称为物质的第四态，它是通过高压放电使气体电离产生的包含大量电子、离子以及活性自由基的混合体。在空气净化领域，等离子技术利用这些高能粒子...

1、接触角测量仪的工作原理接触角是指在一固体水平平面上滴一液滴，固体表面上的固-液-气三相交界点处，其气-液界面和固-液界面两切线把液相夹在其中时所成的角，它是衡量液体对固体表面润湿性的重要指标。接触角测量仪就是用于精确测量这一角度的仪器，其工作原理主要基于光学成像和几何分析，以下为你详细介绍：​​光学成像系统​​：接触角测量仪通常配备有高精度的光学镜头和光源。光源为测量区域提供均匀、稳定的照明，以确保液滴轮廓能够清晰成像。光学镜头则负责将液滴的图像放大并聚焦到图像传感器(如...

在半导体行业，芯片的制程精度已进入纳米级（当前主流制程为3-7nm），任何微小的杂质（如有机污染物、金属颗粒、氧化层）都可能导致芯片功能失效或性能下降。传统的湿法清洗（如使用化学溶剂浸泡）虽能去除部分杂质，但存在残留溶剂、损伤芯片表面、污染环境等问题，难以满足先进制程的清洁需求。而等离子清洗机凭借“干法清洁、微观可控、无二次污染”的特性，成为半导体制造全流程中的关键设备。对于半导体工艺工程师、设备采购人员或行业研究者而言，深入掌握其在各环节的应用逻辑与技术细节，是保障芯片制造...