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接触角测量仪作为材料表面科学领域的核心分析工具,通过从静态到动态的测量,为材料表面性能的完整表征提供了科学量化手段。这种仪器基于光学成像和表面热力学原理,能够精确测量液滴在固体表面形成的接触角,揭示材料的润湿性、表面能、粘附性等关键性能指标。一、技术原理:光学成像与智能算法结合接触角测量仪的核心工作原理基于高精度光学成像和计算机数字图像分析技术。当一滴液体滴落到固体表面时,在气、液、固三相交界处会形成特定的接触角,这个角度是液体表面张力、固体表面能以及液固界面张力共同作用的结...
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确实,等离子除胶技术正以其独特优势,逐步改变工业清洗领域的技术格局。要判断它是否会全面取代传统方法,我们需要从技术原理、应用效益和行业趋势等多个层面进行深入分析。一、等离子除胶技术与传统清洗方法的核心差异:特性维度等离子除胶技术传统湿法清洗传统机械除胶核心原理利用等离子体的物理轰击和化学反应分解污染物依赖化学溶剂的溶解、乳化等作用依靠刷洗、打磨、刮除等物理外力环保性干式处理,无需化学溶剂,无有害废液排放,工作气体可无害化处理产生大量含有VOCs的化学废液,需专门处理可能产...
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真空等离子清洗技术作为一项先进的干式表面处理工艺,确实为制造业带来了一场“清洗革命”。它通过独特的机理,在高效处理材料表面的同时,避免了传统湿法清洗可能带来的环境和损伤问题。真空等离子清洗:干式表面处理的高效革命一、技术原理:物质的第四态与表面作用真空等离子清洗机的核心在于利用物质的第四态——等离子体。当设备抽真空后,通入工艺气体(如氧气、氮气),并施加高频电场,气体分子会被电离,形成包含离子、电子、自由基等多种高活性物质的等离子体。这些高能粒子会与材料表面发生两类主要作用:...
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在半导体制造中,等离子清洗机确实堪称“守护神”。它通过解决纳米级的污染难题,直接提升了芯片的良品率和可靠性。下面这个表格能让你快速了解它的核心价值。关键维度传统清洗工艺的挑战等离子清洗机的解决方案清洁精度难以清除化学键合型残留物,可能留有水渍或盐类结晶实现纳米级超精细清洗,高能离子可深入微沟槽,清除传统方法无法触及的污染物作用机制主要依赖化学溶剂的溶解作用(湿法)物理溅射+化学反应,兼具清洁与表面活化双重效果,增强界面结合力工艺影响可能对晶圆表面造成物理损伤或化学残留非...
11-22
等离子技术通过物理和化学双重作用机制,在纳米尺度上实现材料表面的超精密处理。这种技术能够精确调控材料表面的化学组成、微观结构和物理性质,达到传统方法难以企及的精度水平。一、核心作用机制1、物理作用机制高能粒子轰击是等离子体物理作用的核心。等离子体中的离子、电子等高能粒子以高速轰击材料表面,通过动量传递将污染物从表面剥离。这种物理轰击能够有效去除表面附着的颗粒物、油脂等污染物,同时通过溅射效应在表面形成微细坑洼,增加表面粗糙度。表面刻蚀作用通过控制离子轰击能量和角度,可以在材料...
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在现代工业制造中,SPV-150Plasma清洗机以其独特的优势,成为了实现高效无损清洁的关键设备。它不仅能够快速去除各种材料表面的污渍、油脂、有机物等杂质,还能在不损伤材料本身的前提下,提升表面性能,为后续的加工工艺打下坚实基础。一、清洁原理Plasma清洗机的核心在于其等离子体的生成与作用。等离子体是一种高温、高能量的离子态气体,通过电离气体,使气体中的原子或分子失去或获得电子,形成正离子和电子的混合态。在清洗过程中,等离子体中的高能粒子与材料表面的污染物发生物理和化学反...
9-12
科研级接触角测量仪是材料表面性能研究的重要工具,其测量结果的准确性对科学研究具有重要意义。在实验过程中可能出现的误差来源,并提出了相应的解决方法。通过对仪器校准、样品处理、实验环境控制以及测量方法优化等方面的探讨,旨在提高接触角测量的准确性和可靠性,为相关领域的研究提供参考。接触角是衡量固体表面润湿性的重要参数,在材料科学、生物医药、电子工程等领域有着广泛的应用。科研级接触角测量仪通过测量液滴在固体表面的接触角,能够提供关于表面能、表面张力、表面粗糙度等关键信息。然而,在实际...
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等离子风棒是一种利用离子化技术来消除静电的高科技设备,它通过产生大量的正负离子气流来中和物体表面的静电。以下是等离子风棒“吹”出科技风的具体原理和方法:一、工作原理1、离子化过程:等离子风棒内部配备有精密的放电针和出风孔,通过高压发生器产生高速流动的正负离子气流。当电源通电时,形成高强度的电场,将针型电极放置于此电场中靠近放电管处,使得针型电极和放电管两端产生瞬间爆发式放电,进而带动周围空气进行离子化反应,不断释放大量的氧负离子。2、静电中和:这些离子随后被风棒的气流携带,吹...
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微电子封装是现代电子技术发展的重要环节,它不仅关系到电子产品的性能和可靠性,还直接影响到产品的成本和市场竞争力。在微电子封装过程中,等离子除胶机作为一种先进的表面处理设备,发挥着至关重要的作用。一、基本原理等离子除胶机利用等离子体的高能电子、离子和自由基等活性粒子与材料表面的胶体发生化学反应,从而实现胶体的去除。等离子体是物质的第四态,具有非常高的能量和活性,能够在分子水平上对表面进行处理。二、在微电子封装中的具体应用1、光刻胶去除:在微电子制造中,光刻胶是用于形成微细图形的...
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在半导体制造过程中,光刻胶的去除是关键步骤之一。等离子去胶技术因其高效、环保和精确性被广泛应用于这一过程。然而为了进一步提升生产效率和产品质量,优化半导体等离子去胶机的去胶效率显得尤为重要。1、优化工艺参数等离子去胶的效率与多种工艺参数密切相关,包括射频功率、反应室压力、气体流量和类型、处理时间等。通过实验优化这些参数,可以找到适合特定光刻胶材料的去胶条件。例如:(1)射频功率:适当增加射频功率可以提高等离子体密度,从而增强去胶效果。但过高的功率可能导致材料损伤或过度刻蚀。(...
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随着科技的不断进步,各种高新技术设备逐渐走进了我们的生活和生产。其中宽幅等离子清洗机作为一种高效、环保的表面处理设备,正受到越来越多行业的关注和应用。宽幅等离子清洗机是一种利用等离子体进行表面处理的设备。其工作原理是通过高频电源激发气体分子,使其电离成等离子态。这些高能量的等离子体能够有效去除材料表面的有机污染物、氧化物和其他杂质,同时对材料表面进行改性,提高其附着力和润湿性。相比传统的化学清洗方法,等离子清洗具有无污染、高效率、低成本等优点。宽幅等离子清洗机采用干式清洗方式...