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等离子清洗机气体的应用领域和产品结构

更新时间:2023-06-08      点击次数:464
  等离子清洗机中常用的工艺气体包括氧气、氩气、氮气、压缩空气、氢气、四氟化碳等。它利用气体电离产生的等离子体对工件表面进行处理。不同的工艺气体会被用来达到最佳的处理效果,那么等离子清洗机中常用的工艺气体如何选择呢?
  氧气是等离子清洗常用的活性气体,属于物理+化学处理方式。电离后产生的离子可以物理轰击表面,形成粗糙的表面。同时,高活性氧离子可以与断裂的分子链发生化学反应,形成活性基团的亲水表面,从而达到表面活化的目的。
  有机污染物的元素在断键后会与高活性氧离子发生化学反应,形成一氧化碳、二氧化碳、H2O等分子结构。从表面分离,从而达到表面清洁的目的。
  氧主要用于高分子材料的表面活化和有机污染物的去除,但不适合易氧化的金属表面。真空等离子体中的氧等离子体为浅蓝色,在局部放电条件下类似白色。放电环境光线明亮,肉眼观察真空室可能没有放电。
  产品结构
  真空等离子体表面处理系统主要包括三个部分:真空腔及真空系统,等离子体发生器,控制系统。
  (A)真空腔及真空发生系统
  真空腔固定于机柜框架内,左右两侧为可拆门,因此内部的真空腔及真空系统的维修是极方便的。真空发生系统由波纹管、KF接头、真空泵以及油雾过滤器组成,核心部件真空泵(真空泵组)。
  (B)等离子体发生器
  等离子体发生器在20Pa-100Pa间给电极板施加电压,产生低温等离子体。利用高频转换技术形成高频电压加到电极板上,当真空腔内达到一定真空度时,产生等离子体放电现象,放电后电路会自动调节电压到适当值,保证电路正常稳定放电。
  (C)控制系统
  本系统使用MCGS触摸屏、西门子PLC、中文界面。设备的工艺流程控制:真空泵启动->挡板阀开启->达到设定的真空度->通入工艺气体->RF放电->工作时间到破真空->工作完成。设备分自动和手动两种方式。
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