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真空等离子清洗机的应用及原理

更新时间:2023-04-07      点击次数:1029
   随着科技的不断发展,各行业对于清洗技术的要求也越来越高。其中,电子行业、航天航空工业等对于清洗的要求尤为严格。而在这些行业中,真空等离子清洗机凭借其高效、无残留、无损伤等特点受到越来越多的关注和应用。

真空等离子清洗机

  一、应用领域
  该设备主要用于半导体、涂层、光学、电子、航空航天等领域中不同材料表面的清洗。具体来说,它可用于以下方面:
  1、半导体制造业:半导体器件生产过程中需要频繁进行清洗,在传统的清洗方法中难免会留下污染或残留物。而真空等离子清洗机不仅能够清除这些物质,而且还能降低工作环境中的细菌和微生物数量,从而大大提高了半导体产品的质量和稳定性。
  2、涂层行业:在涂层生产过程中,需要对底材进行清洗,以确保涂层的附着力和光滑度。等离子清洗机不仅能有效地去除油脂、灰尘和其他污染物,而且还能防止细菌在制造过程中的污染。
  3、光学制造业:光学产品如镜片、透镜等需要高精度、高质量的表面处理,而真空等离子清洗机可有效地去除表面残留物,减少在表面加工过程中产生的损伤,从而提高了光学产品的质量。
  4、航天航空工业:在航空航天领域,各种零部件如发动机、制动器等需要经常进行清洗。可以清除这些部件表面的污垢和油脂等,从而保证了它们的性能和寿命。
 
  二、基本原理
  真空等离子清洗机是利用等离子体发生器产生带电粒子,通过激发表面物质分子将其分解为小分子,从而实现清洗的目的。其主要原理如下:
  1、等离子体发生器:等离子体是由气体分子经过电子轰击而形成的带电粒子的集合体。等离子体发生器通过高压电场将气体转变为等离子体,然后在等离子体中产生不同的化学反应,达到清洗效果。
  2、气体选择:不同的材料需要不同的清洗气体。例如,在半导体制造业中,氧气和氩气是常用的清洗气体;而在涂层行业中,四氟化碳是经常使用的清洗气体。
  3、清洗方式:主要有两种清洗方式:一种是辉光放电清洗,即利用等离子体与表面物质的作用力实现清洗效果;另一种是放电等离子清洗,即直接向表面物质施加电弧或电晕放电,产生化学反应来进行清洗。
 
  三、注意事项
  在使用时,需要注意以下几点:
  1、选择适当的气体:不同的领域和材料需要使用不同的气体,需要根据具体情况选择适当的清洗气体。
  2、合理设置工艺参数:包括清洗时间、清洗气体流量等,需要通过实验和测试确定合适的工艺参数。
  3、安全操作:在工作时需要使用高压电场,需要遵守相关安全操作规程,以免发生事故。
  总之,真空等离子清洗机是现代清洗技术中一种十分重要的清洗方式。它不仅能够清除表面污染物,而且还具有无残留、无损伤等特点,因此在各行业中得到了广泛应用。
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